·Î±×ÀÎ
KOITA ȸ¿ø»ç ·Î±×ÀÎ
»ç¾÷ÀÚ¹øÈ£
ȸ»ç¸í
¡Øȸ»ç¸í ÀԷ½à (ÁÖ), (À¯), ÁÖ½Äȸ»ç Á¦¿Ü
ºñ¹Ð¹øÈ£
ºñ¹Ð¹øȣȮÀÎ
·Î±×ÀÎ
ȸ¿ø°¡ÀÔ
¾ÆÀ̵ð/Æнº¿öµåã±â
·Î±×ÀÎ
KOITA ȸ¿ø»ç ·Î±×ÀÎ
¾ÆÀ̵ð(À̸ÞÀÏ)
ºñ¹Ð¹øÈ£
·Î±×ÀÎ
¾ÆÀ̵ð/Æнº¿öµå´Â KOITA ȨÆäÀÌÁö¿¡¼ ãÀ¸¼¼¿ä [¹Ù·Î°¡±â]
´Ý±â
±â¼ú/Á¦Ç° µî·Ï¤ý¼öÁ¤
ºÐ¾ß¤ýÁö¿ªº° °Ë»ö
´ã´çÀÚ Á¤º¸
À̸§
ÁÖÁ¾·®
Á÷À§
»ç¿ø
¿¬¶ôó
010-6392-1580
À̸ÞÀÏ
seyoung.kim@rfdcoltd.com
´Ý±â
·±Æ÷µå¸²
¾÷Á¾(¿¬±¸ºÐ¾ß) : ±â°è/¼ÒÀç
http://
±â¾÷Á¤º¸
»ç¾÷ÀÚ¹øÈ£
509-88-00728
´ëÇ¥ÀÚ
Á¤¼øºó
¼³¸³ÀÏ
2017.06.14
ÀüȹøÈ£
070-4107-6006
º»»çÁÖ¼Ò
(18324)
°æ±âµµ ȼº½Ã È¿Çà·Î 462-11 (ÁÖ)·±Æ÷µå¸²
¸ÅÃâ¾×
0(¹é¸¸¿ø)
´ã´çÀÚ/Á÷À§
ÁÖÁ¾·® / »ç¿ø
¿¬¶ôó º¸±â
±â¾÷Á¤º¸2
Á¦Ç°¸í
Plasma source, ALD Àåºñ
Á¦Ç°´ëÇ¥À̹ÌÁö
Á¦Ç° ´ëÇ¥ À̹ÌÁö
[2016-03-08]
±â¼ú/Á¦Ç°
±â´É ¹× Ư¡
(»çÁøÆ÷ÇÔ)
¡Û Plasma source
[Ư¡]
-Process½Ã °øÁ¤ particle ÃÖ¼ÒÈ
-¾ç»ê½Ã Throughput ±Ø´ëÈ
[¼º´É]
-Plasma Density:¡¡¡Â3¡¿1£°£±£²ea/cm3
-Electron Temperature : ~4 eV
¡Û ALD Àåºñ
[Ư¡]
-OLED Passivation °øÁ¤ Àû¿ë½Ã
À¯±â¹«±â ÁõÂøÀÌ °¡´É ÇÔ.
-¾ç»ê½Ã Throughput ¹× Tact time ±Ø´ëÈ
[¼º´É]
-À¯¹«±â ¿¬¼Ó ÁõÂø °¡´ÉÇÔ.
-Hybrid Encapsulation
Çù·ÂÈñ¸Á ³»¿ë
- ´ç»çÀÇ È²µ¿Á¦Ç°Àº ¹ÝµµÃ¼ Àü±â, ÀüÀÚºÎÇ°, ÀÚµ¿Â÷, ¼±¹Ú, »ê¾÷¿ë ±â°è·ù µîÀÇ ¼ÒÀç·Î »ç¿ëµÇ¸ç ±¹³»´Â ¹°·Ð ¼±Áø±¹¿¡ ºñÇØ ¿ùµîÇÑ °æÀï·ÂÀ» °¡Áü
- Áß±¹µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¹× ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ ±â¾÷¿¡ ¼öÃâ È°¼ºÈ
ÁÖ¿äÀÎÁõ¼ö»ó³»¿ª
- º¥Ã³±â¾÷ÀÎÁõ
¸ñ·Ï
(06744) ¼¿ï½Ã ¼Ãʱ¸ ¹Ù¿ì¸þ·Î 37±æ 37 »ê±âÇù ȸ°ü ´ëÇ¥Æѽº : 02-3460-9049
»ç¾÷ÀÚµî·Ï¹øÈ£ : 220-82-00051 °³ÀÎÁ¤º¸°ü¸®Ã¥ÀÓ°ü : ÇѼºÈñ
Copyright ¨Ï korea industrial technology association. All rights Reserved.